电子厂净化车间的规范标准需综合 国际标准、国家标准、行业规范 及 电子制造特殊要求(如防静电、AMC控制、微振动控制等)。以下是核心规范要点:
ISO 14644-1
洁净室分级(ISO 1~9级),悬浮粒子浓度限值。
IEST-RP-CC系列
洁净室操作与测试规范(如过滤器检漏、气流组织)。
SEMI标准(半导体专用)
SEMI F21(AMC控制)、SEMI S2(设备安全)。
GB 50073-2013《洁净厂房设计规范》
通用洁净室设计要求。
GB 50472-2008《电子工业洁净厂房设计规范》
电子行业专用条款(防静电、微振动等)。
GB 50646-2020《特种气体系统设计规范》
适用于半导体厂特种气体供应。
ANSI/ESD S20.20
静电放电控制标准(电子厂强制要求)。
GMP(医药电子)
部分医疗电子组件需符合GMP附录1。
工艺环节 | 推荐洁净等级 | 核心要求 |
---|---|---|
半导体前道(光刻) | ISO 3~4 | AMC控制+温湿度±0.5℃ |
芯片封装 | ISO 5 | 防静电+氮气惰化 |
SMT贴片(锡膏印刷) | ISO 6~7 | 湿度<40% RH(防锡珠飞溅) |
锂电池极片制造 | ISO 7~8 | 粉尘浓度<1mg/m³ |
普通电子组装 | ISO 8 | 基础防静电 |
温湿度:
温度:22±2℃(半导体需±0.5℃)。
湿度:45±5% RH(防静电区域可能需30~40% RH)。
压差:
洁净区对非洁净区≥5Pa,产尘区负压。
噪声:≤65dB(A)。
地面:表面电阻 10⁶~10⁹Ω(环氧自流坪或PVC)。
工作台:电阻 10⁴~10⁸Ω,接地阻抗<1Ω。
人员:穿戴防静电服/鞋,腕带接地(人体电压<100V)。
限值(SEMI F21):
污染物 | 允许浓度 |
---|---|
酸性气体 | <1ppb |
可凝有机物 | <10ppb |
措施:化学过滤器(ULPA+活性炭)、新风预处理。
单向流(层流):用于ISO 5级及以上区域(风速0.45±0.1m/s)。
非单向流:用于ISO 6~8级,换气次数≥15~50次/小时。
墙面/天花:
彩钢板(岩棉/玻镁芯,防火A级)或不锈钢板。
接缝处打胶密封,圆弧角处理(R≥50mm)。
地面:
防静电环氧自流坪(2~3mm厚)或PVC焊接地板。
门窗:密闭型,带EPDM密封条,窗框与墙面平齐。
传递窗:带自净或UV杀菌功能(医药电子需VHP灭菌)。
三级过滤:
初效(G4)+中效(F8-F9)+高效(HEPA H13-H14/ULPA U15)。
FFU:用于局部高洁净度区域(如芯片封装台)。
恒温恒湿空调(±1℃精度),半导体厂可能需冷水机组+精密空调。
洁净LED灯具(≥300lux),嵌入式安装。
实时监测粒子数、温湿度、压差,数据存储≥3年。
锂电池车间需防爆电气(如Ex d IIB T4等级)。
项目 | 标准方法 | 合格标准 |
---|---|---|
洁净度 | ISO 14644-1 | 粒子数符合设计等级 |
高效过滤器检漏 | EN 1822或IEST-RP-CC034 | 泄漏率≤0.01% |
防静电 | ANSI/ESD S20.20 | 表面电阻10⁶~10⁹Ω |
微生物(医药电子) | GMP附录1 | 浮游菌<1 CFU/m³(A级) |
空态(NCR):设备未运行,测试基础参数。
静态(SCR):设备运行无人员。
动态(OCR):模拟生产状态(至少3天)。
微振动控制:
光刻区需防微震地面(振幅<1μm)。
特种气体:
硅烷、磷化氢等气体管道需独立排风+泄漏报警。
能耗优化:
采用变频风机、热回收装置降低运行成本。
设计阶段:按产品工艺确定洁净等级+防静电/AMC需求。
施工阶段:选择无尘室专业承包商(如中电二公司、苏净集团)。
验收阶段:第三方检测(如SGS、TÜV)。
电子厂净化车间需严格遵循 “不产尘、不积尘、易清洁” 原则,建议结合具体工艺咨询洁净工程公司定制方案。